半導(dǎo)體精密清洗的目的是為了保證半導(dǎo)體的良品率，實(shí)際上，半導(dǎo)體精密清洗并非簡(jiǎn)單地在水里走幾圈，而是實(shí)實(shí)在在的一套工藝，屬于先進(jìn)制造設(shè)備范疇，其中涉及許多物理和化學(xué)課題。那么這里所說的精密清洗有哪些方式呢，下面給大家詳細(xì)介紹下。

根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，半導(dǎo)體精密清洗分為濕法精密清洗和干法精密清洗。

濕法精密清洗：指采用去離子水和化學(xué)溶劑，輔以超聲波、加熱、真空等物理方法，對(duì)半導(dǎo)體表面進(jìn)行清洗，隨后加以濕潤(rùn)再干燥，以去除半導(dǎo)體制造過程中的污染物。濕法清洗過程化學(xué)藥液基本相同，不同工藝主要差別在于輔助方法，也是濕法精密清洗工藝的主要難點(diǎn)。

干法精密清洗：指不使用化學(xué)溶劑的清洗技術(shù)，雖然它可清洗污染物比較單一，但在28nm及更先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的邏輯產(chǎn)品和存儲(chǔ)產(chǎn)品中至關(guān)重要。

雖然清洗步驟中90%使用的都是濕法清洗技術(shù)，但在半導(dǎo)體制造中，干法和濕法在短期無法互相替代，并在各自領(lǐng)域向更先進(jìn)方向發(fā)展。

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